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以新IT技术防范安全之殇:新华三对智能电网的安全应答

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防范图2.Al/CNT/Ge结的电学特性。安全d.FCCVD方法收集的碳纳米管薄膜(标尺:20mm)。

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研究人员认为,殇智随着CNT薄膜厚度增加,殇智顶层金属的金属诱导间隙态效应和费米能级钉扎减弱,从而使漏电流增大,而当CNT薄膜厚度进一步增加时,薄膜中CNT密度及电子密度也会增加,从而产生新的钉扎效应,导致漏电流减小,这得到了实验的验证,即随着CNT薄膜厚度及密度的增加,CNT/Ge结闭态漏电流逐渐减小(图3)。新华a.器件D1-D12的反向漏电流具有明显差异。2)为研究费米能级钉扎机制提供平台,电网的安答提出在该器件中金属诱导间隙态机制是钉扎的主要原因。

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技术e.12nm碳纳米管薄膜的SEM图像(标尺:5μm)。研究成果于2022年5月13日在《Small》在线发表,防范题为使用碳纳米管插层减弱金属/锗费米能级钉扎效应(Fermi-leveldepinninginmetal/Gejunctionsbyinsertingacarbonnanotubelayer)。

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安全b.偏压为+1V时D1-D12漏电流的统计分析图。

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